マスクレス露光技術の採用でコストの大幅削減に成功

 現在のところ、「フォトリソグラフィー」と呼ばれる製造工程を担う装置が完成しており、2015年にはトランジスタの製造が行えるようになった。

 ちなみに、フォトリソグラフィーとは感光材を塗布したウエハーの表面にパターン状に露光するというものだ。露光した部分と露光していない部分ができることでウエハー上に微細なパターンが形成される。

 パターンを形成する際には、通常「フォトマスク」と呼ばれるものが数十枚必要となる。フォトマスクは固定費に該当するため、1枚のウエハーに対して、生産できる半導体デバイスの数が多くなれば多くなるほどフォトマスクの償却費は安く抑えられる計算になる。

 しかし、ミニマルファブの場合、1枚のウエハーから生産できる半導体デバイスの数が、大口径のウエハーに比べて極端に少ないため、フォトマスクがコスト高の大きな要因になってしまう。そこで、ミニマルファブではフォトマスクを使わずウエハーに直接パターンを描画するマスクレス露光技術を採用した。その結果、半導体デバイス1個当たりの製造コストの大幅な削減に成功した。

0.5インチウエハーを装置にセットしている様子(産総研の原氏の研究室にて)
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フォトリソグラフィーで作製した半導体チップ(上)とそれを拡大した画面
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Next研究開発から生産まで担える世界初の半導体製造装置