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電子・機械

Tech-On!

TELがIMECとのEUV協業を拡大、塗布・現像装置を提供してASMLの露光装置と接続へ

2010年02月16日  RSS 

 東京エレクトロン(TEL)は,ベルギーIMECと進めていたEUV(extremeultra violet)露光技術に関する協業を拡大することで合意したと発表した。発表によれば,IMECは300mmウエハー対応のEUV露光技術の開発施設を2010年6月に稼働させる予定であり,ここにはTELがレジスト塗布・現像装置「CLEAN TRACK LITHIUS Pro」を,オランダASM Lithography社が2010年第4四半期にEUV露光装置「NXE:3100」を,それぞれ納入する。この2台を接続,22nmノード以降をターゲットとしたEUV露光技術を開発する。

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